إنتل تستخدم أداة ASML الجديدة لتصنيع رقائق Panther Lake

أعلنت شركة ASML الهولندية أن إنتل بدأت استخدام آلاتها من الجيل التالي عالية الفتحة العددية (High NA) للأشعة فوق البنفسجية القصوى (EUV) لإنتاج جزء من معالجات Panther Lake المخصصة لأجهزة اللابتوب، وفقًا لما نقلته رويترز اليوم.

تفاصيل التقنية

تستخدم آلات High NA EUV أشعة فوق بنفسجية قصوى لطباعة أنماط الدوائر على رقائق السيليكون بدقة متناهية، مما يسمح بتصغير الترانزستورات وزيادة كفاءة الطاقة. تبدأ إنتل باستخدام هذه الآلات في إنتاج جزء من شرائح Panther Lake بعد تجارب بدأت في 2024.

التسعير والتوفر

لم تُعلن إنتل أو ASML عن أسعار الآلات أو موعد الإنتاج التجاري الكامل لـ Panther Lake. لكن من المتوقع أن تُستخدم هذه التقنية في الأجيال القادمة من معالجات اللابتوب.

المنافسة

تتنافس إنتل مع TSMC وسامسونج في تبنّي تقنية High NA EUV. يرى محللون أن الاستخدام المبكر قد يمنح إنتل ميزة في تعلم تشغيل الآلات قبل المنافسين، لكن التكلفة العالية قد تؤخر الاعتماد الواسع.

الأثر المحتمل على إنتل

قد يساعد هذا التحرك إنتل على تحسين كفاءة تصنيع الرقائق وخفض التكاليف على المدى الطويل. لكن العائد المالي الفوري محدود، إذ أن الإنتاج التجاري للرقائق باستخدام High NA لا يزال في مراحله الأولى.